היצרנים הסינים של שבבים פנו לממשל בבקשה ליצור אנליטיקה מקומית ל-ASML.

המנהיגים הסינים בתעשיית החלקיקים קוראים לתיאום לאומי לפיתוח ליטוגרפיה EUV (2026–2030)

במאמר שפורסם במסגרת פרסום מיוחד, מנהלים בכירים של חברות סיניות מובילות בתחום המיקרופורמציה הגישו תוכנית פעולה משותפת. המטרה – לסנכרן מאמצים לפיתוח מערכות ליטוגרפיות ולכך להעלות את עצמאות הטכנולוגית של המדינה.

מי שהציג את ההצהרה תמצית המסר
- צ'או ג'ינגזון (Naura Technology Group) קורא לאחדות משאבים לאומי לשילוב מהדורות שנשגמו במוסדות שונים.
- שן נאנשי (Yangtze Memory Technologies Corp.) ראה צורך ליצור "ASML סינית" כדי לעבור את המחסום של אספקות חיצוניות ולהעלות עצמאות עצמית.
- ליו וייפין (Empyrean Technology) הדגיש חשיבות חלוקת משאבים אנושיים ומימון ליצירת חברה משולבת.

נציגי מוסדות מובילים בתעשיית החלקיקים ציינו נקודות חולשה עיקריות: תוכנה לאוטומציה של תכנון, חומרים למשטחים סיליקוניים וטכנולוגיות גזים.

למה זה חשוב עכשיו
* הגבלות ייצוא אמריקאיות (מאז 2020) מגבילות את גישה הסין לטכנולוגיות מתחת ל-7 ננומטר, מה שהופך ליטוגרפיה EUV קריטית.
* ASML היא ספק היחיד בעולם למכונות ליטוגרפיה EUV. הציוד מורכב מ-100,000 רכיבים מ-5,000 ספקים; ASML רק מסדר אותם.
* פריצות פנימיות: הסין השיג הצלחות משמעותיות בתחומים נפרדים (לייזרים EUV, ייצור משטחי סיליקון, מערכות אופטיות), אך שילוב הטכנולוגיות הללו נשאר אתגר מורכב.

הכיוונים המרכזיים לעבודה
1. יצירת פלטפורמה אחידה למחקר ופיתוח של מכשירים ופריטים מתקדמים.
2. פיתוח תוכנה לאוטומציה של תכנון אלקטרוניקה.
3. חיזוק מדעי החומרים: ייצור משטחי סיליקון איכותיים וגזים הדרושים לליטוגרפיה EUV.
4. הקמת תיאום לאומי במסגרת התוכנית לחמש שנים (החמישית ה-15).

הערכת המצב הנוכחי
* הסין מחזיקה כ-33% מהשוק העולמי במיקרופורמציה בתהליכים מבוססים (28 ננומטר ומעלה).
* בתחומים אלה, המדינה מצטיינת הן בעיצוב והן בייצור.

לסיכום, מומחים דורשים ממשלת הסין לפתח דחופים תוכניות ליישום אינטגרציה של כל רכיבי הליטוגרפיה EUV. זה יאפשר יצירת "ASML" עצמאית ולהבטיח את עצמאות הסין בטכנולוגיות קריטיות במיקרופורמציה.